LA-ICP-MS：
レーザーアブレーション誘導結合プラズマ質量分析
分析概略
LA-ICP-MS（Laser Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry：レーザーアブレーション誘導結合プラズマ質量分析）はパルスレーザーにより試料を直接アブレーションして質量分析を行う分析手法です。感度に材料中の不純物を分析することができます。
＊各分析手法の分析深さはSMART Chartからご覧いただけます。
対象分野
半導体・エレクトロニクス・自動車・航空宇宙・鉄鋼・先端材料・エネルギー・メディカルデバイス
用途事例
- 固体試料の化学分析
- 元素・安定同位体の分析とマッピング
- 試料の欠陥調査
- 深さ方向の複数元素検出
原理/特徴
微量成分から主成分に近い高濃度成分まで分析が可能- 周期表の大部分の元素の測定が可能。(例外元素：C、N、O、F、Ne、Cl、Ar、Br、Kr、Tc、Xe、Pm、Po、At、Rn、Fr、Ra、Ac、Pa）
- 深さ方向分解能：〜1um
- 測定スポットサイズ：5～200um
- 検出下限：数10ppb
- 前処理不要で非破壊に近い分析が可能
- レーザーを用いるため、深さ方向・ライン方向・広範囲方向に分析が可能
装置構成
分析事例
- LA-ICP-MS：ラインスキャン分析
- LA-ICP-MS：析出物の成分分析
分析に適した試料量/形状
- 形状：固体
