Surface Analysis｜表面分析サービス
サービス概要
次世代半導体やナノマテリアルの開発には、表面分析が必要不可欠です。
まずXPS/ESCA、AES、TOF-SIMS、XRFを用いた表面分析では、最表面の元素組成や化学状態を特定。前三者は「深さ方向分析」にも対応し、積層デバイスの評価に威力を発揮します。またRBS/HFSやXRR、エリプソメータは、アドバンスマテリアルの膜厚や密度をナノスケールで定量化します。
さらに内部不純物を追跡するLA-ICP-MS、有機分子構造を捉えるFT-IR、ラマン、微小領域を解析するNano-IRまで、次世代の技術課題を網羅。高度な分析技術の相乗効果で、研究開発を強力にバックアップします。
サービス一覧
表面分析
- XPS/ESCA (X線光電子分光法)
- AES（オージェ電子分光法
- TOF-SIMS（飛行時間型二次イオン質量分析)
- XRF（蛍光X線分析）
※XPS/ESCA、AESおよびTOF-SIMSは「深さ方向分析」にも対応しています。
薄膜分析
- RBS/HFS（ラザフォード後方散乱/水素前方散乱分析）
- XRR（X線反射率法）
- Ellipsometer（分光エリプソメータ―測定）
深さ方向分析
- LA-ICP-MS（レーザーアブレーション誘導結合プラズマ質量分析）
- SR（拡がり抵抗測定法）
有機分析
- TOF-SIMS（飛行時間型二次イオン質量分析)
- FT-IR（フーリエ変換赤外分光法）
- Raman（ラマン分光法）
- Nano-IR（ナノ赤外分光分析）
